薄膜

1、薄膜光学发展于十九世纪，1873年麦克斯韦创立的电磁理论奠定了薄膜光学所有问题的理论基础。

2、光学薄膜是薄膜科学中最早被深入研究的，而增透膜在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位。

3、通过改变薄膜尺寸可以改变薄膜的亚铁磁共振频率和涡流损耗，从而对特定频率的噪声衰减达到最佳效果。

4、详细阐述了氮氧化硅薄膜中氢杂质的存在活动及其对薄膜性能的影响，并提出了降低氢含量的合理方法。

5、论述了杂质渗入到多孔薄膜后，薄膜中的杂质浓度分布的理论解释，给出了对实际工艺的指导性结论。

6、通过减小压电薄膜的厚度，开发出了世界最高的曲变度的压电薄膜元件。

7、研究者们已经制造出220纳米厚度的硅薄膜，相比于25倍厚的无图案薄膜，它能吸收同样数量的光。

8、独特的薄膜放卷装置及薄膜恒张力输送，薄膜瞬时切断，自动搭接裹膜方式，收缩包装后强度更高。

9、薄膜还可以防止盐水进入薄膜内部从而杀死海藻，同时潮水的涨落保持着海藻健康而均匀地分布着。

10、采用水基凝胶流延工艺制备四方多晶氧化锆薄膜，确定合理的烧成制度，并考察薄膜的显微结构与烧结性能。

11、本文中得出薄膜质量交换器效率之解析解，此薄膜质量交换同时具有透析与超过滤作用。

12、首先利用量测薄膜经雷射照射后的穿透率变化，来界定薄膜临界损伤状态。

13、本文提出一种新设计方法用于既改善膜层内电场分布以减少薄膜的光损耗,同时又兼顾薄膜的反射率要求.

14、介绍了日本几家公司通过改善薄膜的滑爽性、平坦性、耐划擦性及透明性等性能，生产高档聚酯薄膜。

15、薄膜键盘：键盘采用薄膜开关技术，一触即发，用户无后顾之忧。

16、利用ICP - CVD工艺制备出一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜，并给出了制备薄膜的工艺参数。

17、来因:塑料薄膜爆发静电,变不败薄膜之间彼此粘连.

18、报道了金刚石薄膜的蓝区电致发光现象，总结了几种有关金刚石薄膜蓝区发光“A”带的发光机理。

19、获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。

20、介绍薄膜开关的设计和构造，讨论薄膜开关在军用电子产品设计中的应用。